[荷兰ASML] [技术封锁] 光刻机 2017

光刻机(英语:”Mask Aligner”)是制造* 微机电,光电,二极体大规模集成电路的关键设备。

可以分为两种,分别是contact aligner,模板与图样大小一致,曝光时模板紧贴晶元;以及stepper,利用类似于投影机的原理,获得比模板更小的曝光图样。

EUV: Extreme Ultraviolet

Ultraviolet: 紫外线

violet: 紫色

https://www.youtube.com/watch?v=Y1KjrRQUonM

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